Laboratory of Micro Nano Electrochemical
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磁控電漿薄膜系統
10/30/2014
一.儀器名稱
*中文名稱:磁控電漿薄膜系統
*英文名稱:Sputter-System
二.儀器廠牌、型號、購置年限
廠牌:高敦科技
型號:KD-SPUTTER
購置年限:99年11月
三.重要規格
1. 人機界面
2. POWER: DC Plasma generator 500 W*1台與 Radio Frequency Power Supply :300 W*1台
3. 氣體:MFC for Ar 與 N
2
4. 抽氣系統:RP + Turbo Pump
5. 基板載台轉速 5rpm,可調控
6. 可升溫最高300°C
7. 靶材種類:Pt 、Au、SiO、GaO與Al
設備放置地點:工程館 E707
旋轉塗佈機
10/15/2013
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旋轉塗佈機
主要是將材料溶液塗佈於基材上
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冷凍乾燥濃縮組
10/15/2013
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冷凍乾燥濃縮組
在室溫下快速去除水分
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真空型烘箱
10/15/2013
0 Comments
真空型烘箱
可在真空環境下去除水分及氧氣
0 Comments
網版印刷機
10/15/2013
0 Comments
網版印刷機
將漿料印刷至基材上
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熱壓機
10/15/2013
熱壓機
將電極材料壓至平整
電子氣體流量計
10/15/2013
電子氣體流量計
可準確調控氣體流量成份
充放電儀
10/15/2013
Battery Automatic Tester
進行電池的充放電測試
手套箱
10/15/2013
手套箱
可提供無氧環境避免氧氣干擾實驗或汙染對氧氣較敏感之物質
管狀型高溫爐
10/15/2013
0 Comments
管狀型高溫爐
煅燒奈米材料
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